한국전기연구원이 상온에서 직접 다층 그래핀을 성장시키는 'K-스퍼터링' 기술을 개발했다. 기존 그래핀 제조 공정에서 필수적이던 복잡한 전사 공정을 거치지 않고 실온 환경에서 그래핀을 기판에 입힐 수 있는 원천기술이다.
연구팀은 인천대학교와 경북대학교와의 교차 검증을 완료해 기술의 신뢰성을 확보했으며, 국내외 특허 출원을 진행 중이다. 이번 기술 개발은 그래핀 산업화의 주요 장애물이었던 고온 공정과 복잡한 전사 단계를 제거함으로써 생산성 향상과 비용 절감을 기대하게 한다.