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삼성전자, ASML 주도 12인치 포토마스크 컨소시엄 참여…2028년 D램에 하이개구수 EUV 도입
삼성전자가 ASML 주도 대형 마스크 컨소시엄에 참여해 12인치 포토마스크 공동 개발과 표준 구축에 나선다. 12인치 포토마스크는 하이개구수 극자외선 노광장비의 면적 한계를 보완해 생산성과 경제성을 높이는 역할을 할 전망이다. 삼성전자는 2028년 업계 최초로 첨단 D램 제조에 하이개구수 극자외선 노광장비를 적용하는 것을 목표로 하고 있다.
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ASML 주가 3.11% 급등, TSMC·삼성 High-NA EUV 채택 소식
ASML 주가가 9월 8일 3.11% 상승하며 1,768.22달러를 기록했다. TSMC와 삼성이 High-NA EUV 장비 도입을 공식화한 소식이 주가를 견인했다. 인텔의 100만 웨이퍼 생산 마일스톤과 12인치 포토마스크 전환 합의도 긍정적으로 작용했다.
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