경제·금융
삼성전자, ASML 주도 12인치 포토마스크 컨소시엄 참여…2028년 D램에 하이개구수 EUV 도입
삼성전자가 ASML 주도 대형 마스크 컨소시엄에 참여해 12인치 포토마스크 공동 개발과 표준 구축에 나선다.
12인치 포토마스크는 하이개구수 극자외선 노광장비의 면적 한계를 보완해 생산성과 경제성을 높이는 역할을 할 전망이다.
삼성전자는 2028년 업계 최초로 첨단 D램 제조에 하이개구수 극자외선 노광장비를 적용하는 것을 목표로 하고 있다.
· 대한민국, 수원
